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Deposizione chimica da fase vapore
Deposizione in fase di vapore di elementi chimici
Deposizione in fase vapore
Fibre ottiche ottenute per deposizione in fase vapore
IVPO
Processo di deposizione da fase vapore a tubo chiuso
Processo di deposizione interna da fase vapore
Processo di ossidazione in fase vapore interno

Übersetzung für "deposizione in fase vapore " (Italienisch → Deutsch) :

TERMINOLOGIE
deposizione chimica da fase vapore | deposizione in fase di vapore di elementi chimici | deposizione in fase vapore

chemische Abscheidung aus der Dampfphase | chemische Abscheidung aus der Gasfphase | chemische Beschichtung aus der Gasphase | chemische Dampfabscheidung | chemisches Abscheiden aus der Gasphase | chemisches Aufdampfen | CVD [Abbr.]


processo di deposizione da fase vapore a tubo chiuso | processo di deposizione interna da fase vapore | processo di ossidazione in fase vapore interno | IVPO [Abbr.]

Innenbeschichtung durch das Gasphaseverfahren | Innenbeschichtung durch die Gasphase


fibre ottiche ottenute per deposizione in fase vapore

nach dem Niederschlagverfahren hergestellte Faser
IN-CONTEXT TRANSLATIONS
le quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno immesso sul mercato dell’Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vap ...[+++]ore, nel settore della fabbricazione dei semiconduttori.

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.


idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un’impresa che li utilizza per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori.

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet.


10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell’incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l’indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

(10) Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.


la quantità di ogni sostanza elencata nell’allegato I e, ove del caso, nell’allegato II che hanno importato nell’Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l’esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l’incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica d ...[+++]

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind.


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le quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno immesso sul mercato dell'Unione, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vap ...[+++]ore, nel settore della fabbricazione dei semiconduttori ;

alle Mengen jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in der Union in Verkehr gebracht hat, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, für die Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;


la quantità di ogni sostanza elencate nell'allegato I e, ove del caso, nell'allegato II che hanno importato nell'Unione, indicando le principali categorie di applicazione in cui la sostanza è utilizzata, specificando separatamente le quantità immesse sul mercato per essere impiegate come materia prima, per l'esportazione diretta, ai fini della produzione di aerosol dosatori per la somministrazione di ingredienti farmaceutici, per essere utilizzate in materiale militare, per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica d ...[+++]

die Menge jedes in Anhang I und gegebenenfalls Anhang II aufgeführten Stoffes, die er in die Union eingeführt hat, unter Angabe der Hauptkategorien der Anwendungen, für die die Stoffe verwendet werden, wobei die in Verkehr gebrachten Mengen zur Zerstörung, für Verwendungen als Ausgangsstoff, für direkte Ausfuhren, zur Herstellung von Dosier-Aerosolen für die Verabreichung pharmazeutischer Wirkstoffe, zur Verwendung in Militärausrüstung und die Verwendung zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie gesondert anzugeben sind ;


idrofluorocarburi forniti direttamente da un produttore o da un importatore a un'impresa che li utilizza per l'incisione di materiale semiconduttore o la pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori;

teilfluorierte Kohlenwasserstoffe, die von einem Hersteller oder Einführer direkt an ein Unternehmen geliefert werden, das sie zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie verwendet;


10. I gas fluorurati a effetto serra immessi in commercio ai fini dell'incisione di materiale semiconduttore o della pulizia di camere adibite alla deposizione chimica da fase vapore nel settore della fabbricazione di semiconduttori sono etichettati con l'indicazione che il contenuto del contenitore può unicamente essere impiegato a tal fine.

10. Fluorierte Treibhausgase, die zum Ätzen von Halbleitermaterial oder zur Reinigung von Kammern für die chemische Beschichtung aus der Gasphase in der Halbleiterindustrie in Verkehr gebracht werden, werden mit einer Kennzeichnung versehen, auf der angegeben ist, dass der Inhalt des Behälters nur zu diesem Zweck verwendet werden darf.


i) «mercurio gassoso totale»: vapore di mercurio elementare (Hg) e mercurio gassoso reattivo, cioè specie di mercurio idrosolubili con una pressione di vapore sufficientemente elevata per esistere nella fase gassosa.

„gesamtes gasförmiges Quecksilber“ ist elementarer Quecksilberdampf (Hg) und reaktives gasförmiges Quecksilber, d. h. wasserlösliche Quecksilberverbindungen mit ausreichend hohem Dampfdruck, um in der Gasphase zu existieren.


Per ottenere un concentrato di proteine animali trasformate, la fase liquida deve essere pompata in due scambiatori termici riscaldati a vapore e muniti di camere a vuoto per eliminarne l'umidità sotto forma di vapore acqueo.

Um ein verarbeitetes Eiweißkonzentrat zu erhalten, wird die Flüssigphase in zwei dampfbeheizte Wärmeaustauscher gepumpt, die mit Vakuumkammern ausgerüstet sind, damit die Feuchtigkeit ausgedampft werden kann.




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